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UV光癢催化設(shè)備
產(chǎn)品說(shuō)明：UV光解設(shè)備主要是用來(lái)除臭；高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體；裂解惡臭氣體如：氨；三甲胺；硫化氫；甲硫醇；甲硫醚；二甲二流，二硫化碳；苯乙烯；VOC類(lèi)；笨；甲苯；二甲苯等分子鏈結(jié)構(gòu)；使有機(jī)和無(wú)機(jī)高分子惡臭化學(xué)物分子鏈；在紫外線光束照射下；降解轉(zhuǎn)變低分子化合物；如CO,HO等；利用高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的癢分子產(chǎn)生游離癢；因游離癢所攜帶正負(fù)電子不平衡所以需與癢分子結(jié)合；進(jìn)而產(chǎn)生臭氧；UV+O2---O-+O*(游離癢)O+O2+O3(臭氧)眾所周知臭氧對(duì)有機(jī)物具有強(qiáng)的氧化作用；對(duì)惡臭氣體及其他刺激性異味有清除效果
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